Estudo comparativo entre tecnologias CMOS, NMOS e SOI em um circuito de APS

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dc.contributor.advisorGiacomini, R.
dc.contributor.authorMadeira, Frederico Marion
dc.date.accessioned2019-03-20T14:00:53Z
dc.date.available2019-03-20T14:00:53Z
dc.date.issued2012
dc.identifier.citationMADEIRA, Frederico Marion. <b> Estudo comparativo entre tecnologias CMOS, NMOS e SOI em um circuito de APS. </b> 2012. 116 f. Dissertação (Mestrado em Engenharia Elétrica) - Centro Universitário da FEI, São Bernardo do Campo, 2012 Disponível em: <http://sofia.fei.edu.br/tede/tde_busca/arquivo.php?codArquivo=267>. Acesso em: 21 set. 2012.
dc.identifier.urihttps://repositorio.fei.edu.br/handle/FEI/440
dc.languagepor
dc.language.isopt_BR
dc.publisherCentro Universitário da FEI, São Bernardo do Campo
dc.subjectSemicondutores complementares de óxido metálico
dc.subjectTeste de penetração no solo
dc.titleEstudo comparativo entre tecnologias CMOS, NMOS e SOI em um circuito de APSpt_BR
dc.typeDissertaçãopt_BR
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