Estudo do comportamento das correntes de fuga do dreno do Diamante SOI nMOSFET em altas temperaturas
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Tipo de produção
Dissertação
Data de publicação
2012
Periódico
Editor
Centro Universitário da FEI, São Bernardo do Campo
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Autores
Carvalho, Daniel Belo de
Orientadores
Bellodi, Marcello
Resumo
Citação
CARVALHO, Daniel Belo de. Estudo do comportamento das correntes de fuga do dreno do Diamante SOI nMOSFET em altas temperaturas. 2012. 119 f. Dissertação (Mestrado em Engenharia Elétrica) - Centro Universitário da FEI, São Bernardo do Campo, 2012 Disponível em: . Acesso em: 30 out. 2012.
Palavras-chave
Transistor de efeito de campo de metal-óxido semicondutor